原子層堆積(ALD)装置市場の将来展望 – 2031年に83.3億ドル規模を目指す

原子層堆積（ALD）装置市場は、今後の10年間で急速な成長を遂げることが予測されています。2022年の市場規模は約41億米ドルと評価され、2031年までに83.3億米ドルに達すると見込まれています。これは、2023年から2031年の予測期間において、年平均成長率（CAGR）8.2％という高い成長率を示しています。この成長の背景には、半導体業界やディスプレイ技術など、先端的なエレクトロニクス分野における需要の増加が存在します。

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原子層堆積（ALD）技術とは

ALD技術は、極めて精密な薄膜の堆積を実現する技術であり、主に半導体製造や電子デバイスの製造において使用されています。この技術は、交互に変化する化学的前駆体を基板に暴露し、それによって原子レベルの薄膜を形成します。ALD技術の利点は、超薄膜の厚みを高い精度で制御できること、そして堆積される膜の均一性が保証されることです。このため、次世代の電子部品やディスプレイデバイスにおいて不可欠な技術となっています。

主要な企業:

Kurt J. Lesker Company
Optorun Co. Ltd
CVD Equipment Corporation
ASM International
Entegris
AIXTRON
Picosun
Arradiance
Beneq
ALD NanoSolutions
Veeco Instruments
Oxford Instruments
Eugene Technology Co. Ltd

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